LPMS-CVD05紧凑型側式真空氣相沉積設備
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LPMS-CVD05紧凑型側式真空氣相沉積設備
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真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备。工作时把含有构成薄膜元素的化合物(长链性高分子材料,一般为派瑞林Parylene)、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室,借助空间气相化学反应, 在产品表面上沉积生成0.1-100um厚度均匀,无应力、优异的电绝缘性和防护性防潮、防霉、防腐、防盐雾薄膜涂层。

 

广泛应用于:航空、电路板、LED 、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域产品的防水封装与保护工艺中

0.5米不锈钢真空反应罐,坚固耐用,镀膜速度快。

机台一体式设计,结构紧凑,占地小。

真空管路采用不锈钢连节,方便维护及保养

侧开式设计便于取放产品与腔体清洁维护作业

反应罐内置转盘机构使产品在镀膜过程中匀速旋转,镀层更均匀。

使用数位LED真空计显示工作状况时的真空度。

操作简易,可依实际需求变换自动 /手动操作模式

红外线加热圈,加温速度快。

采用高精度温控装置多段控温,温控精确。

定时加热、超温报警和自动停止加热等保护功能

自诊功能和各种故障报警

选配远程控制和手机APP功能。




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